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微电子和半导体用检验系统 DM3 XL
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徕卡显微镜Leica DM3 XL 微电子和半导体用检验系统
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微电子和半导体检查系统 DM3 XL
快速检测,快速行动微电子和半导体检查系统 DM3 XL检测速度在微电子和半导体行业的检查、过程控制或缺陷和故障分析中至关重要。您发现缺陷的速度越快,您可以做出更快的反应。大视野——视野增加30
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德国徕卡 正置显微镜 DM3 XL
快速检测,快速响应徕卡DM3 XL正置显微镜 DM3 XL——在微电子和半导体行业中,检验、过程控制或缺陷和故障分析的速度至关重要。检测缺陷的速度越快,您做出响应的速度也就越快。视场宽敞 30
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Continuum XL 红外化学成像系统 (IR-Imaging)
仪器简介:Continu m XL 红外成像系统 采用完全升级的模式,可以从单点分析的显微镜升级配置到目前领先的双排阵列数据采集显微红外成像系统和 FPA 焦平面阵列数据采集显微红外成像系统,它代表
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VacuGene XL Vacuum Blotting System 核酸真空印迹系统
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德国徕卡 XL支架Leica XL Stand
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Invitrogen EVOS XL细胞成像系统
EVOS XL细胞成像系统先进的透射光系统,可提供等同于其他标准EVOS系统输出的格式、功能和特性的高清晰结果采用彩色液晶屏取代传统目镜,屏幕角度可调,观察姿势舒适自由用于细胞形态、组织切片观察和
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Continuum XL 红外化学成像系统 (IR-Imaging)
仪器简介: Continu m XL 红外成像系统 采用完全升级的模式,可以从单点分析的显微镜升级配置到目前领先的双排阵列数据采集显微红外成像系统和 FPA 焦平面阵列数据采集显微红外成像
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Invitrogen EVOS XL Core细胞成像系统
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